3D-литограф с прямой записью iGrapher UV

Общее описание

Серия систем iGrapher – это UV‑комплексы для крупноформатной 3D‑литографии с прямой лазерной записью на длине волны 355 нм, обеспечивающие субмикронное разрешение, высокую скорость экспонирования и стабильность параметров благодаря высокоточной воздушно‑опорной координатной платформе, активной виброизоляции и системе климат‑контроля класса 100. Ключевые особенности: Использование UV‑лазера DPSSL 355 нм мощностью 10 Вт для высокоточной 3D‑литографии прямым записыванием. Поддержка крупноформатных подложек с рабочим полем до 1500 × 2500 мм (формат 8–130"). Высокоточная воздушно‑опорная платформа перемещения с активной системой виброизоляции. Система климат‑контроля класса 100 с поддержанием температуры ±0,05 °C для стабильности параметров экспонирования. Многоформатная оптическая система с числовой апертурой 0,3 / 0,45 / 0,8 для оптимизации разрешения и скорости. Субмикронное разрешение и минимальный размер структур до 0,5 мкм при высоком уровне однородности CD. Высокая скорость записи (до 1000–1500 мм²/мин) при сохранении точности совмещения до ±0,1–0,3 мкм. Поддержка 3D‑топографической литографии в базовой конфигурации и опциональных режимов интерференционной и поляризационной литографии. Совместимость с распространёнными форматами данных (GDS, BMP, STL и др.) для интеграции в существующие CAD/EDA‑процессы.

Применение

• Формирование крупноформатных 3D‑рельефных структур для информационной и дисплейной фотоники (light‑guides, 3D‑pattern’ы, waveguides).
• Прямое записывание микро‑ и нано‑структур для дифракционной и микрооптики (DOE, микролинзовые массивы, фазовые пластины).
• Изготовление оптических элементов для систем защиты и маркировки (голографические / структурированные элементы, security‑label).
• Разработка и прототипирование 3D‑структур для исследований в области метаповерхностей, фотонных кристаллов и других функциональных покрытий.
• Производство функциональных микроструктур на стекле, полимерах и композиционных подложках в электронике и оптоэлектронике (сенсоры, опто‑чипы, интегральная оптика).
• Создание топографических структур и рельефов для последующей репликации (штампы, формы, мастер‑матрицы) в массовом производстве.